Fotoerrefrakzio-efektua aplikazio optiko holografikoen oinarria da, baina beste aplikazio optiko batzuei ere arazoak ekartzen dizkie, beraz, litio niobato kristalaren fotoerrefrakzio-erresistentzia hobetzeari arreta handia jarri zaio, horien artean dopinaren erregulazioa metodo garrantzitsuena da.Fotoerrefrakzio-dopinaren aldean, fotoerrefrakzio-zentroa murrizteko balio aldakorra ez duten elementuak erabiltzen ditu.1980an, Mg-dopatutako LN kristalaren erresistentzia fotorrefraktiboa 2 magnitude ordena baino gehiago handitzen zela jakinarazi zen, eta horrek arreta handia erakarri zuen.1990ean, ikertzaileek aurkitu zuten zink-dopatutako LN-k magnesioarekin dopatutako LN-ren antzeko fotoerrefrakzio-erresistentzia duela.Zenbait urte geroago, eskandio-dopatua eta indio-dopatua LN-k fotoerrefrakzio-erresistentzia zutela aurkitu zuten.

2000. urtean, Xu et al.altu hori aurkitu zuenratioa Mg-dopatuaLNfotoerrefrakzio-erresistentzia handiko kristala banda ikusgaian hasErrefrakzio-errendimendu bikaina UV bandan.Aurkikuntza honek ulermena hautsi zuenduren fotoerrefrakzio erresistentziaLNkristala, eta banda ultramoreetan aplikatutako material fotoerrefraktiboen hutsunea ere bete zuen.Uhin-luzera laburragoak esan nahi du sare holografikoaren tamaina txikiagoa eta finagoa izan daitekeela, eta dinamikoki ezabatu eta sarean idatz daitekeela argi ultramorearen bidez, eta argi gorriaren eta argi berdearen bidez irakur daitekeela, optika holografiko dinamikoaren aplikazioaz jabetzeko. .Lamarque et al.altua hartu zuenM ratioag-dopatuaLN Nankai Unibertsitateak UV fotoerrefrakzio gisa emandako kristalamaterialaeta bi dimentsioko laser markaketa programagarria gauzatu zen, bi uhin akoplatutako argiaren anplifikazioa erabiliz.

Hasierako fasean, fotoerrefrakzioaren aurkako dopin elementuek elementu bibalente eta tribalenteak barne hartzen zituzten, hala nola magnesioa, zinka, indioa eta eskandioa.2009an, Kong et al.tetr erabiliz dopin fotoerrefraktiboaren aurkakoa garatu duaelementu baliotsuak, hala nola hafnioa, zirkonioa eta eztainua.Errefrakzio-erresistentzia bera lortzen denean, elementu bibalente eta tribalenteekin alderatuta, elementu tetradbalenteen dopa-kantitatea txikiagoa da, adibidez, %4,0 mol hafnioa eta %6,0 mol magnesioa dopatuta.LNkristalek dute similarfotoerrefrakzio erresistentzia,2% ,0 mol zirkonioa eta 6.5 % mol magnesio dopatuaLNkristalek dute similarfotoerrefrakzio erresistentzia.Gainera, hafnioaren, zirkonioaren eta eztainuaren bereizketa koefizientea 1etik hurbilago dago litio-niobatoan, kalitate handiko kristalak prestatzeko mesedegarriagoa dena.

WISOPTIC-ek [www.wisoptic.com] garatutako kalitate handiko LN